一般超純水的核心部分都是反滲透係統，在確定了水源之後選擇合適的反滲透膜。根據水源硬度等確定使用兩級RO+離子交換係統還是選擇 RO+陰陽床+離子交換係統。然後根據水源的特性確定反滲透之前預處理係統（超濾、M...
一般超純水的核心部分都是反滲透係統，在確定了水源之後選擇合適的反滲透膜。根據水源硬度等確定使用兩級RO+離子交換係統還是選擇 RO+陰陽床+離子交換係統。然後根據水源的特性確定反滲透之前預處理係統（超濾、MF、AC等）。
要點：反滲透是製取純水的核心設備，如何運行好反滲透關鍵在於預處理，隻有嚴格控製好RO係統進水指標，RO係統才能平穩運行。
| 大流量濾芯 | |||
| 中文名 | 大流量濾芯 | 長 度 | 1016mm |
| 外文名 | Large flow filter | 外 徑 | 152mm-161mm |
| 工作壓差 | ≤0.245MPA | 過濾比 | β≥1000 |
| 流 量 | 70m³/h | 結 構 | 導流層、支撐層、過濾層 |
| 壽 命 | 3-6個月 | 連接方式 | 超聲波熱熔 |
| 密 封 | 丁晴橡膠 | 精度範圍 | 1-50微米 |
在半導體產品的製造過程中，由於生產設備的精度和生產工藝的複雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其是作為半導體行業血液的超純水係統。半導體行業超純水的製造過程可以概括為四個部分，即預處理部分、反滲透部分、電去離子部分和拋光混床部分。在一些半導體工廠中，“負床和正床”也用來代替電去離子裝置，主要是根據原水水質和生產水水質對弱電解質的要求。
產品優勢
避免了傳統離子再生消耗大量的酸堿，對環境更加友好；
克服了傳統離子設備再生周期較長的問題；
超濾反洗排水、一級反滲透濃水排水和CEDI濃水排水及其回用措施有利於節能減排；
節約水資源和半導體製造單位的運營成本。
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預處理部分
多介質過濾器活性炭過濾器
粗濾器超濾裝置
反滲透部分
逆滲透膜
電去離子部分
電子數據交換模塊和電子數據交換模塊
拋光混床
超純水係統工藝流程
1、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
5、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
